Uvod v elektronsko mikroskopijo

Največja povečava elektronskih mikroskopov zdaj presega 15-milijonkrat,
Leta 1931 sta M. Nohr in E. Ruska iz Nemčije modificirala visokonapetostni osciloskop z virom elektronov s hladno katodo in tremi elektronskimi lečami ter dobila več kot desetkrat povečane slike. Izumili so transmisijsko elektronsko mikroskopijo, ki je potrdila možnost elektronske mikroskopije za ojačanje slike. Leta 1932 je z izboljšavo Ruska ločljivost elektronskih mikroskopov dosegla 50 nanometrov, kar je približno desetkrat več kot takratni optični mikroskopi, s čimer je bila presežena meja ločljivosti optičnih mikroskopov. Posledično so elektronski mikroskopi začeli prejemati pozornost.
Leta 1940 je Hill v Združenih državah kompenziral rotacijsko asimetrijo elektronskih leč z astigmatizerjem, kar je povzročilo nov preboj v ločljivosti elektronskih mikroskopov in postopoma doseglo sodobno raven. Na Kitajskem so leta 1958 uspešno razvili presevni elektronski mikroskop z ločljivostjo 3 nanometre. Leta 1979 so razvili tudi veliki elektronski mikroskop z ločljivostjo 0,3 nanometra.
Čeprav je ločljivost elektronskih mikroskopov veliko boljša od ločljivosti optičnih mikroskopov, je težko opazovati žive organizme zaradi potrebe po vakuumu, obsevanje z elektronskim žarkom pa lahko povzroči tudi radiacijske poškodbe bioloških vzorcev. Druge težave, kot je izboljšanje svetlosti elektronske pištole in kakovosti elektronske leče, prav tako zahtevajo nadaljnje raziskave.
Elektronski vrstični mikroskop z emisijami polja
Glavna uporaba: Ta instrument ima izjemno visoko ločljivost in lahko opazuje in obdeluje slike sekundarnih elektronov in slike odbitih elektronov različnih morfologij površine trdnih vzorcev. Opremljen z visoko zmogljivim rentgenskim energijskim spektrometrom, lahko istočasno izvaja kvalitativno, polkvantitativno in kvantitativno analizo mikrotočkovnih, linijskih in površinskih elementov na površini vzorca ter ima možnost celovite analize morfologije in kemičnih komponent.
Kategorija instrumentov: 03040702/Instrumenti/Optični instrumenti/Elektronska optika in instrumenti za ionsko optiko
Informacije o indikatorju: Ločljivost slike sekundarnega elektrona: 1,5 nm Pospešena napetost: 0-30kV Faktor ojačanja: 100-500000-krat Neprekinjeno nastavljiva delovna razdalja: 5-35 mm Neprekinjeno nastavljiv nagib: -5 stopinj ~ 45-stopinjski rentgenski spektrometer: Ločljivost: 133 eV Območje analize: BU
Informacije o prilogi: instrument za pozlačevanje in ogljikovo prevleko ISIS sonda za povratno sipanje sistema za obdelavo slik
Emisijska vrstična elektronska mikroskopija zaradi svoje visoke ločljivosti zagotavlja zanesljivo eksperimentalno sredstvo za preučevanje nanomaterialov. Poleg tega so bile pridobljene zadovoljive slike za polprevodniške materiale in izolatorje. Morfološka opazovanja so bila izvedena na superprevodnih tankih filmih, magnetnih materialih, tankoslojnih materialih, vzgojenih z epitaksijo z molekularnim žarkom, in polprevodniških materialih. Analiza sestave mikro regij je bila izvedena na različnih materialih in pridobljeni so bili zadovoljivi rezultati